研究内容
实验验证了Ir-O配位数在模型催化剂上的作用,合成了低配位的IrO x纳米颗粒,用于耐用的PEM水电解槽。本文首先利用等离子体缺陷工程对商业金红石- io2进行了模型研究。结合原位X射线吸收光谱(XAS)分析和计算研究阐明了为什么配位数降低会增加催化活性。接下来,根据模型研究的指导方针,探索了一种低配位的ir基催化剂,其过电位为231 mV@10 mA cm -2,并且在酸性OER中具有较长的耐久性(100小时)。最后,组装的PEM水电解槽提供低电压(1.72 V@1 a cm -2)以及超过1200小时(@1 a cm -2)的优异稳定性,没有明显的衰减。这项工作为配位数的作用提供了独特的见解,为设计用于PEM水电解槽的ir基催化剂铺平了道路。
图文解析
图片图1所示。(a)-(b)金红石- io2和经过o2和Ar等离子体处理的io2的Ir- l3边缘XANES光谱(a)和Ir- R空间FT-EXAFS光谱(b),确定其对应的Ir-O配位号。(c)模型催化剂在扫描速率为5 mV s -1时的红外校正LSV曲线。(d)模型催化剂的η (@j = 10 mA cm -2)和质量活度(@η = 300 mV)的比较。